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半导体常见气体的用途

时间:2014-06-05 作者:未知 来源: 访问人数:0

序号( I% G; y, x! g4 L J( T2 U3 |

组份气
# o7 g/ P# p' F. \( q8 L D

稀释气
3 S% v0 G/ R$ ^4 Z8 u- j

组份气含量范围
$ o4 M( V: R' W- T6 w

1( m, m E  z4 i: C) I8 R6 g
2
4 k' T3 k# L, D. k8 p+ v# y9 G2 h37 K; `9 |2 R8 U. U" y
49 ?- Y3 i. Y$ k  R1 P
5
% p: W7 D) m2 q, G6- D' J% `, M# @7 h8 P$ D% @9 I9 G) g
7/ f9 W% i# j6 ~/ g+ r% s' K
8 F$ d  ^& ?- B2 b/ g; j9 T  G
9 s+ B7 @; N8 w" F. T! e1 [
10
; Z" r  I( m/ T

氯化氢(HCl, Y: v$ J- r% a+ S% ~: ?6 ~! g U
硒化氢(H2Se
0 o4 m: C/ v- m8 Q* t锗烷(GeH4  {! E  S9 ~8 d, z3 F
磷烷(PH34 P+ y/ ]$ C+ T8 ]) I! q! q
砷烷(As2H35 {9 | [" @9 G4 \
乙硼烷(B2H6' g5 M5 |/ K* o6 g% |  J5 E
硅烷(SiH4
! }, e* V( v4 N9 ?二乙基碲(C2H52Te2 E1 \ P$ d% o/ c+ w氯(Cl2  C9 ?* z4 @1 v. N: U
一氧化碳(CO
+ p5 e8 i! h2 t; e  Q

氧、氮8 g" X1 k0 t; e! Q
氩、氦、氢、氮
O: q; E9 T  G% t1 a氩、氦、氢、氮
) G5 L0 f6 T5 r! Q. X/ u' Q( p8 r2 N氩、氦、氢、氮
  C% K0 f0 \" ]% f! W5 Q, W氩、氦、氢、氮
( y  Y# B0 r7 X* I$ b+ V! V氩、氦、氢、氮
7 e! M9 d0 |0 h! z氩、氦、氢、氮  ~/ y3 t) n7 S% A
氩、氦、氢、氮
" W* V9 O5 B5 B- _! z
' x2 F8 B P( p* Q六氟化硫/ _$ X( {. B# k* f

110% h( |4 O+ S8 l: x/ i
55000×10-6- X3 h. [$ U1 h8 q9 [" f
15%
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55000×10-61%
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3 s9 H9 c M, Z0 l/ Z9 J5150×10-6
( a6 W2 b7 p f" |9 f6 {4 P28%( E9 d8 b; Y! ~1 a1 L
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